Gate energy efficiency and negative capacitance in ferroelectric 2D/2D TFET from cryogenic to high temperatures

نویسندگان

چکیده

Abstract We report the fabrication process and performance characterization of a fully integrated ferroelectric gate stack in WSe 2 /SnSe Tunnel FETs (TFETs). The energy behavior during charging discharging, together with loss switching cycle efficiency factor are experimentally extracted over broad range temperatures, from cryogenic temperature (77 K) up to 100 °C. obtained results confirm that linear polarizability is maintained all investigated temperature, being inversely proportional T stack. show lower-hysteresis sine-qua-non condition for an improved efficiency, suggesting high interest true NC operation regime. A pulsed measurement technique shows possibility achieve hysteresis-free negative capacitance (NC) effect on 2D/2D TFETs. This enables sub-15 mV dec −1 point subthreshold slope, 20 average swing two decades current, I ON order nA µm −2 / OFF > 10 4 at V d = 1 V. Moreover, smaller than 1.5 current also TFET hysteresis An analog factor, 50 , achieved NC-TFETs. reported highlight operating steep slope switch may allow combined low loss,

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

the role of russia in transmission of energy from central asia and caucuses to european union

پس ازفروپاشی شوروی،رشد منابع نفت و گاز، آسیای میانه و قفقاز را در یک بازی ژئوپلتیکی انرژی قرار داده است. با در نظر گرفتن این منابع هیدروکربنی، این منطقه به یک میدانجنگ و رقابت تجاری برای بازی های ژئوپلتیکی قدرت های بزرگ جهانی تبدیل شده است. روسیه منطقه را به عنوان حیات خلوت خود تلقی نموده و علاقمند به حفظ حضورش می باشد تا همانند گذشته گاز طبیعی را به وسیله خط لوله مرکزی دریافت و به عنوان یک واس...

15 صفحه اول

The influence of ferroelectric-electrode interface layer on the electrical characteristics of negative-capacitance ferroelectric double-gate field-effect transistors

Key Laboratory for Low Dimensional Materials and Application Technology of Ministry of Education (Xiangtan University), Xiangtan, Hunan 411105, China ASIC R&D Center, School of Electronic Science and Engineering of National University of Defense Technology, Changsha, Hunan 410073, China Pacific Geoscience Centre, Geological Survey of Canada, 9860 West Saanich Road, Sidney, British Columbia, Can...

متن کامل

Enhancements and Degradations in Ultrashort Gate GaAs and InP HEMTs Properties at Cryogenic Temperatures : an Overview

Enhanced performances of 111-V field effects transistors are generally expected at cryogenic temperatures thanks to the better confinement and the velocity of carriers. An overview of our recent work on ultrashort gate-length HEMTs on GaAs and InP substrates at low temperature is presented in this paper. The compared behavior of the devices and the relative enhancement or degradation of their l...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: npj 2D materials and applications

سال: 2021

ISSN: ['2397-7132']

DOI: https://doi.org/10.1038/s41699-021-00257-6